Fonte de alimentação de pulso de alta frequência série GMF/GMS

Com o aumento da complexidade, espessura e densidade do caminho da placa PCB, bem como a diminuição da abertura e da largura do caminho, a galvanoplastia CC tradicional torna-se cada vez mais insatisfatória, dificultando a galvanoplastia de alta velocidade e a distribuição uniforme da corrente para esses produtos. Isso se concentra principalmente na parte central do furo, ou seja, na região de baixa densidade de corrente, o que resulta em uma maior distribuição de cobre na borda do furo do que na parte central. A fonte de alimentação por pulsos positivos e negativos regula a agregação e a distribuição de íons de cobre em altas e baixas densidades de corrente por meio da ação de pulsos.